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半导体样品的特定部分被水蒸气氧化。监控窗口,半导体清洗设备,设置在氧化室的其中一个室壁中,并设置在能够面对支撑在底座上的半导体样品的位置。监测部设置在氧化室的外部,并可通过监测窗口面对支撑在基座上的半导体样品。以及调节部,用于调节所述基座与所述监视部之间的距离。
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半导体样品的特定部分被水蒸气氧化。监控窗口,半导体清洗设备,设置在氧化室的其中一个室壁中,并设置在能够面对支撑在底座上的半导体样品的位置。监测部设置在氧化室的外部,并可通过监测窗口面对支撑在基座上的半导体样品。以及调节部,用于调节所述基座与所述监视部之间的距离。
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净水装置系统采用先进的全膜除盐处理工艺,通过多级处理工艺,将普通水源水净化成高电阻率的超纯水。
该多功能高压水冲洗装置通过冲洗喷出超纯水形成高压水柱,通过四交叉等多种组合冲洗方式,实现了高速水柱在接近带电设备时由梁状向状的转变。逐层漂洗,达到带电清洗的效果。
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技术先进的纯净水处理和冲洗设备。
纯水处理装置控制系统采用一键式操作系统,通过计算机程序控制整个制水过程和化学清洗过程,并利用分布在整个系统关键节点的传感器网络获取水位、水流量、水压等状态信息。控制参数,全膜多级处理工艺,产水,操作方便,纯水电阻率高
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电力、电气设备长期运行的问题。
电力系统、发电系统、交通运输、石油化工、钢铁水泥、教育、、金融系统等电气设备,如继电器、接线盒、配电板(柜)、保护板(箱)、控制面板(柜)、计量控制面板(柜)等设备均处于长期运行状态。环境中的灰尘、油、盐、金属粉尘、带电粒子等综合污染物随着时间的推移,在设备、引线、连接点、元器件、印刷电路板的表面和深层积累和吸附。
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污垢危害。
绝缘性下降,安全隐患增加环境中的灰尘沉积往往会在设备表面形成一层污染物。污垢包括金属颗粒、油、灰尘和电解质,如酸、碱和盐。当污垢接触到潮湿的环境时,污垢层的导电性会增加,绝缘性会降低。增加阻力,这会导致设备过热。暴露在外的金属丝表面会与空气中的氧气发生反应,形成氧化物。点温度升高,加剧了氧化,在一定程度上会出现闪络现象。造成放电,造成安全事故。